TOC UV

TOC UV MODULE

ENL-T350-E24M

개요

  • 목적: 초순수 제조용수에서 존재하는 미량의 TOC를 최종 단계에서 UPW 규격의 TOC 목표를 안정적으로 충족
  • 구성: 자외선 램프, 자외선 반응기, 제어반
  • 기대효과: 185nm 기반 라디칼 화학 반응으로 산화제 무사용으로 TOC 제거
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원리

중성 자유 라디칼이며 가장 강력한 산화 라디칼 종 중 하나인 하이드록실 라디칼(·OH : Hydroxyl radical)은 그 어떤 화합물도 산화시킬 수 있으며, 매우 높은 반응성으로 생성되는 순간 유기 탄소 및 유기물들과 무차별적으로 반응하여 작은 무기 분자들로 분해하며, 대부분의 반응은 확산 제어 한계에 도달합니다.

물에 200nm 이하의 진공 자외선을 조사하면 물 분자의 균질화와 광화학 이온화를 초래하여 하이드록실 라디칼이 생성됩니다.

진공 자외선을 이용한 광분해는 산화제를 첨가하지 않고 물속에서 고농도의 하이드록실 라디칼을 생성할 수 있는 간단하고 가장 깨끗한 방법으로 주로 UPW(Ultra Pure Water) 생산 공정에서 TOC를 제거하기 위해 이용됩니다.

장점

  1. 기존 수은 램프 대비 아말감 램프 기술 적용에 따른 램프 수명 증가
  2. 공간이 협소하거나 유량이 적은 현장에 적합한 모델
  3. 안정기 모듈을 통해 공간 절약 및 유지 관리의 편의성 향상
  4. 독자적인 램프 소켓 구조로 오존 유출 방지를 위한 밀봉 및 진동 상쇄 기능
  5. 사용자 친화적인 인터페이스로 간편한 조작 및 모니터링 가능

적용분야

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