| 모델명 | ENT350 | ENT300 | ENT250 | ENT200 | ENT150 |
| 램프수 | 24 | 20 | 16 | 8 | 4 |
| 램프타입/입력전환 | 저압Amalgam UV 램프 | ||||
| 재질 | SUS 316 | ||||
| 세척시스템 | 미적용 | ||||
| 사용온도 | 20~40°C | ||||
| 연결규격 | 주문제작 | ||||
| 동작/최대압력 | 10bar | ||||
| 외함 사양 | |||||
| 재질 | RAL7035, Carbon Steel (Option STS 304) | ||||
| 보호등급 | X | ||||
| 시스템 제어반(SCP) | |||||
| 컨트롤러 | PCB | ||||
| 전압/주파수 | |||||
| 사용온도 | 0~50°C | ||||
| 전원공급(PSP) | |||||
| 안정기 형식 | 전자식 안정기 | ||||
중성 자유 라디칼이며 가장 강력한 산화 라디칼 종 중 하나인 하이드록실 라디칼(·OH : Hydroxyl radical)은 그 어떤 화합물도 산화시킬 수 있으며, 매우 높은 반응성으로 생성되는 순간 유기 탄소 및 유기물들과 무차별적으로 반응하여 작은 무기 분자들로 분해하며, 대부분의 반응은 확산 제어 한계에 도달합니다.
물에 200nm 이하의 진공 자외선을 조사하면 물 분자의 균질화와 광화학 이온화를 초래하여 하이드록실 라디칼이 생성됩니다.
진공 자외선을 이용한 광분해는 산화제를 첨가하지 않고 물속에서 고농도의 하이드록실 라디칼을 생성할 수 있는 간단하고 가장 깨끗한 방법으로 주로 UPW(Ultra Pure Water) 생산 공정에서 TOC를 제거하기 위해 이용됩니다.
